紫外光源可採汞燈或UV LED, 

汞燈可選: 350W，500W，1000W，2000W，3500W，5000W.  UV LED可選: 單燈組16晶粒, 單燈組36晶粒, 四燈組64晶粒, 四燈組144晶粒.

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″ 。

汞燈波長 : NUV (含365nm， 405nm，435nm), UV LED波長: 365nm, 405nm, 365nm+405nm.

光源平行半角 : 1.5~2.5度 (依出光口徑) 。

均勻度 : +-3~5% ，

高壓汞燈電源供應器, 或UV LED電源供應器

採用可變倍率鏡頭方便對準操作，標準總倍率 50X-300X， CCD攝影機影像系統，

19吋 LCD螢幕 打光有LED同軸光或環形光， 觀測的兩點間距 4cm-20cm，

可加裝轉折鏡到更小間距， 可加裝鏡頭掃描台以快速移動鏡頭， 可選配背面對準影像系統。

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″，5″， 6″， 7″， 9″ 。

晶圓真空吸盤 : 2″， 4″， 5″， 6″，8″， 圓或方， 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式有 : 真空接觸式與近接式，可調整真空吸附力大小 X，Y軸調整 10mm，調整靈敏度 1um， Z軸可調整 mm，

千分表解析度 1um， 上光罩以手開啟以取放基板。

全手動操作系統，每一動作均需手動操作。

操作流程 : 置基板，手動關下光罩吸盤，鏡頭移入做對準動作，chuck上移至曝光位置，鏡頭移出燈源移入曝光(計時)， 燈源移出，光罩吸盤開啟，取出基板，

曝光計時器時間設定 : 0.1-999秒。

具四個防震氣墊，具調整腳及移動輪， 不鏽鋼支架及盤面，鋁合金桌面及肋板，CDA之調整真空之顯示，電源輸出入等。

採真空接觸曝光圖形解析最佳可達 1um以內 (正光阻厚 1um)，

採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在 3~5um。