全手動光罩對準曝光機

適合研究單位使用
產品簡介:

全手動操作,每一個動作可單獨操作,適合實驗室研究使用或量產前製程開發使用。

紫外光源機型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W 。

曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″,圓或方。

波長 : NUV(含365nm, 405nm,435nm) ,光源平行半角: 1.5~2.5度(依出光口徑)。

均勻度 : +-3~5% ,高壓汞燈泡及電源供應器。

採用可變倍率鏡頭方便對準操作,標準總倍率 50X-300X, CCD攝影機影像系統,

19吋 LCD螢幕 打光有LED同軸光或環形光, 觀測的兩點間距 4cm-20cm,

可加裝轉折鏡到更小間距, 可加裝鏡頭掃描台以快速移動鏡頭, 可選配背面對準影像系統。

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″,5″, 6″, 7″, 9″ 。

晶圓真空吸盤 : 2″, 4″, 5″, 6″,8″, 圓或方, 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式有 : 真空接觸式與近接式,可調整真空吸附力大小 X,Y軸調整 10mm,調整靈敏度 1um, Z軸可調整 mm,

千分表解析度 1um, 上光罩以手開啟以取放基板。

全手動操作系統,每一動作均需手動操作。

操作流程 : 置基板,手動關下光罩吸盤,鏡頭移入做對準動作,chuck上移至曝光位置,鏡頭移出燈源移入曝光(計時), 燈源移出,光罩吸盤開啟,取出基板,

曝光計時器時間設定 : 0.1-999秒。

具四個防震氣墊,具調整腳及移動輪, 不鏽鋼支架及盤面,鋁合金桌面及肋板,CDA之調整真空之顯示,電源輸出入等。

採真空接觸曝光圖形解析最佳可達 1um以內 (正光阻厚 1um),

採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在 3~5um。