雙面曝光曝光機

產品簡介:

雙面曝光曝光機採用上及下兩組曝光源, 欲曝光機基板夾於上下光罩之間同時曝基板上下兩面, 對雙面製程之基板之產能, 能兩倍於單面曝光製程。

紫外光源功率 350W or 500W 曝光光源尺寸 : 4″,5″,6″, 8″ 波長 : UV (350W時365nm強度約16~20mW/cm2) 均勻度: +-5%電源供應器:定功率控制 快門控制計時器:0.1~999.9秒。

採用可變倍率鏡頭影像系統,總影像倍率100X-600X。 小型高解析黑白CCD攝影機,19”LCD螢幕LED同軸光源打光, 影像解析度最佳可達1um鏡頭位置調整,可前後左右上下微調約20mm, 可選擇使用一組或兩組影像系統,選配快速掃描台,可快速移動鏡頭,前後左右移動約10cm。

光罩真空吸盤: 4”,5” 或 6”下吸式 晶圓真空吸盤: 破片2”,3”,4” 或5” 具光罩與晶圓平行面校正功能, 晶圓真空吸盤可前後左右調整約10mm,調整靈敏度1um 旋轉調整約5度,調整靈敏度0.001度 Z軸可調整約3mm, 調整靈敏度1um, Z軸具千分錶可顯示光罩與晶圓間距,Z軸可設定對準與曝光兩種間隙,可調整接觸真空吸附力大小 曝光模式有Vacuum contact,Soft contact,Proximity 人工置放晶片與調整晶片位置,取放晶圓時光罩吸盤以手開啟 。 人工置放晶片與調整晶片位置,取放晶圓時光罩吸盤以手開啟。

採全手動撥鈕操作系統,以手動控制面板操作

操作項目包括光罩與晶圓之更換,光罩與晶圓間隙之切換

光罩與晶圓平行面校正,真空接觸之切換與真空值調整

Z軸的歸零,鏡頭與曝光源左右交替移至對準台上方,並有安全互鎖功能。

桌上型大底板機座,具調整腳。

採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um,

近接曝光依光罩與晶圓間隙最佳可達3~5um。