簡易型曝光機

產品簡介:

對於只有曝第一道製程的客戶, 我們推出簡易曝光機,沒有影像對位功能, 但還保有對平操作及間隙調整功能。

紫外光源功率 : 350W ,500W, 1000W,2000W 。

曝光光源尺寸 : 4”,5”,6”,8”,12” 。

波長: NUV(365nm以500W 6”強度約16~20mW/cm2) 。

均勻度 : +-5% 。

電源供應器 : 350W,500W,1000W,2000W。

光罩真空吸盤 : 4”,5”,7”,9” 下吸式 (選項) 。

晶圓或基板真空吸盤 : 破片,2” 或 4”,5”,6”,8” (選項) ,具光罩與晶圓或基板平行面校正功能,

Z軸可調整約 5mm, 調整解析度 1um, Z軸具千分表可顯示光罩與晶圓間距,

曝光模式有 Soft contact,Proximity, 人工置放晶片或基板與調整晶片位置,取放晶圓時光罩吸盤向上開啟。

採全手動撥鈕操作系統,以手動控制面板操作。

操作項目包括光罩與晶圓之更換,光罩與晶圓間隙之切換光罩與晶圓平行面校正, 真空接觸之切換與真空值調整Z軸的歸零,

曝光源左右移至對準台上方,快門控制計時器 : 0.1~999.9秒。

具四個防震氣墊,具調整腳及移動輪, 不鏽鋼支架及盤面,鋁合金桌面及肋板,CDA之調整真空之顯示,電源輸出入等。

採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um以內(正光阻厚1um), 採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在 3~5um。