紫外光源可採汞燈或UV LED, 

汞燈可選: 350W，500W，1000W，2000W，3500W，5000W.  UV LED可選: 單燈組16晶粒, 單燈組36晶粒, 四燈組64晶粒, 四燈組144晶粒.

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″ 。

汞燈波長 : NUV (含365nm， 405nm，435nm), UV LED波長: 365nm, 405nm, 365nm+405nm.

光源平行半角 : 1.5~2.5度 (依出光口徑) 。

均勻度 : +-3~5% ，

高壓汞燈電源供應器, 或UV LED電源供應器

採用固定倍率鏡頭， 預對台一支或兩支鏡頭做粗定位， 進片位置兩支鏡頭做初步對位， 曝光位置兩支鏡頭做精密對位。

相機可採類比或數位，可使用百萬晝素相機， 由PC之客製化對位軟體，做影像自動對位。

影像打光有 : LED同軸光或環形光， 可選背面對準影像系統機型。

可將來自輸入台的基板作靠邊粗定位， 以便進片手臂送至對準台做精密對準。

左右小手臂可輸入預對台上之基板至對準台， 與取出曝光後之基板至輸出台。

晶舟輸入台由基板推入器將基板傳至預對台.曝光後的基板， 由導出台傳至輸出台之晶舟，未完成之基本移至退片台。

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式4″， 5″，6″，9″ 。

晶圓真空吸盤 : 2″， 4″， 6″，8″ 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式可選 : 真空接觸式與近接式， X，Y，T軸馬達調整 10mm，解析度 1um， Z軸馬達調整 5mm，解析度 1um，

上光罩開啟以取放基板， 自動對準動作依自動對準軟體計算結果由PLC控制調整。

PLC及人機界面控制系統和工業電腦之自動對準軟體， 作基板輸出入及對準曝光程序自動操作。

具四個防震氣墊，具調整腳及移動輪， 鋁擠型機架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機台， 開數個操作與維修門窗及視窗。

產量依對位精度及曝光時間而不同， 近接曝光機型最快可達每分鐘5片，

採真空接觸曝光圖形解析最佳可達 1um以內， 採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定約在 5~10um。