雙面對準曝光機

雙面對準單面曝光系統
產品簡介:

對於無法正常正面對位之製程,可以採用背面對位方式來對位, 雙面對準曝光機包含有正面對位及背面對位兩套對位影像系統。

紫外光源機型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W,3500W,5000W 。

曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″ 。

波長 : NUV (含365nm, 400nm,435nm) 光源平行半角 : 1.5~2.5度 (依出光口徑) 。

均勻度 : +-3~5% ,高壓汞燈泡及電源供應器。

正面對準影像系統採用可變倍率鏡頭方便對準操作,標準倍率 50X-300X,

配合CCD影像系統,19″ LCD螢幕 打光有LED同軸光或環形光,觀測的兩點間距4cm-15cm ,

可選配鏡頭掃描台以快速移動鏡頭,背面對準影像系統採用多段倍率鏡頭或固定倍率鏡頭,

雙CCD攝影機影像系統,切換使用上影像LCD螢幕LED同軸打光,兩組背對準影像處理器,

鏡頭前後左右上下微調約 10mm, 可加裝破片對位用菱鏡組。

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式  4″, 5″,6″,7″, 9″ 。

晶圓真空 Chuck : 2″, 4″,6″,8″ 圓形或方形, 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式有 : 真空接觸式與近接式,可調整真空吸附力大小, X,Y軸調整10mm,調整解析度2um, Z軸可調整5mm, 千分表解析度1um, 上光罩開啟以取放基板。

採PLC半自動操作系統, 可切換手動及自動模式。

操作流程 : 置基板 (按鍵)上光罩關閉,鏡頭移入做對準動作, (按鍵)上光罩下壓, 鏡頭移出燈源移入曝光(計時),

燈源移出取,上光罩開啟,取基板。

曝光快門控制 : 計時器控制 0.1-999秒或能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。

具四個防震氣墊,具調整腳及移動輪, 鋁擠型機架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機台,開數個操作與維修門窗及視窗。

產量依對位精度及曝光時間而不同最快可達每分鐘曝三片,

採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um以內(正光阻厚1um),

採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在3~5um。