半自動光罩對準曝光機

適合量產線使用 單面對準曝光系統
產品簡介:

用PLC程式控制,使多個手動動作能連動,減少手動操作的程序,系統簡單,性能可靠,適合量產線使用。

紫外光源機型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W,3500W,5000W 。

曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″ 。

波長 : NUV(含365nm, 400nm, 435nm) ,光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口徑) 。

均勻度 : +-3~5%,高壓汞燈泡及電源供應器。

採用可變倍率鏡頭方便對準操作,標準倍率 50X-300X, 配合CCD影像系統,

19吋LCD螢幕, 打光有LED同軸光或環形光, 觀測的兩點間距 4cm-15cm ,

可選配鏡頭掃描台以快速移動鏡頭, 可選配背面對準影像系統。

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″,5″,6″, 7″, 9″ 。

晶圓真空Chuck : 2″, 4″, 6″,8″圓形或方形, 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式有 : 真空接觸式與近接式,可調整真空吸附力大小, X,Y軸調整 10mm,調整解析度 2um, Z軸可調整 5mm,

千分表解析度 1um, 上光罩開啟以取放基板。

採PLC半自動操作系統, 可切換手動及自動模式。

操作流程 : 置基板, (按鍵)上光罩關閉,鏡頭移入做對準動作,(按鍵)上光罩下壓,鏡頭移出燈源移入曝光(計時),

燈源移出取,上光罩開啟,取基板。

曝光快門控制 : 計時器控制 0.1-999秒。

能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。

具四個防震氣墊,具調整腳及移動輪, 鋁擠型機架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機台,開數個操作與維修門窗及視窗。

產量依對位精度及曝光時間而不同最快可達每分鐘曝三片,

採真空接觸曝光圖形解析最佳可達 1um以內 (正光阻厚 1um ),

採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在 3~5um。