光罩對準曝光機

全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出，自動對位曝光，可一天24小時操作，減少人力需求，提高可靠性，增加產量，… 詳細內容

用PLC程式控制，使多個手動動作能連動，減少手動操作的程序，系統簡單，性能可靠，適合量產線使用。… 詳細內容

全手動操作，每一個動作可單獨操作，適合實驗室研究使用或量產前製程開發使用。… 詳細內容

對於只有曝第一道製程的客戶，我們推出簡易曝光機，沒有影像對位功能，但還保有對平操作及間隙調整功能。… 詳細內容

保有全手動之完整功能，取消手動機下方之機架以及後方之箱體，做最簡化之設計，適合預算不多之客戶。… 詳細內容

雙面曝光曝光機採用上及下兩組曝光源，欲曝光機基板夾於上下光罩之間同時曝基板上下兩面，對雙面製程之基板之產能… 詳細內容

對於無法正常正面對位之製程，可以採用背面對位方式來對位，雙面對準曝光機包含有正面對位及背面對位兩套對位影像系… 詳細內容