曝光機介紹
紫外光源
本公司具平行紫外光源之製作能力,
紫外光源包括燈箱與電源供應器,
光源大小 : 4″, 6″,8″,10″ 及 10″ 以上
光源波長有:NUV ( G,H,I line )
電源供應器功率有:200W、350W、500W、1000W、2000W、3500W、5000W
高壓汞燈功率有200W、250W、350W、500W、1000W、2000W、3500W、5000W
對準治具
晶圓與光罩採真空吸附於晶圓座與光罩座上,可製作各種尺寸之晶圓座與光罩座。
晶圓座可做X,Y,Z,δ之調整。
晶圓與光罩可做平行校正以達到曝光最佳之解析度。
曝光模式有真空吸附,直接接觸及近接方式。
顯微影像系統
顯微影像系統採用可調倍率之鏡頭+CCD+顯示螢幕的影像系統,
可設計符合對準align key大小的倍率,一般倍率有50X-300X, 100X-600X。
鏡頭可做前後左右之微調以尋找align key,可做上下微調以對焦。
一般採用雙鏡頭設計以方便對準之進行,若採單鏡頭設計,可選用鏡頭掃描台做左右快速移動,
背面對準系統亦可採用可調倍率之影像系統,調至小倍率可加快align key之尋找,調至大倍率可得高解析之對準。
控制系統與基座
可採全手動按鈕操作系統或人機介界PLC系統,
機構移動採氣缸驅動,
Z軸之位置讀取可採用百分表,
計時器時間設定 : 0.1-999秒,
基座以厚鋁板加上肋板製作以達到足夠之剛性。
防震桌
良好之防震桌可避免CCD影像系統進行高倍率之檢視時之影像震動問題。
防震桌以氣囊隔絕地板之震動。