桌上型曝光機

適合研究單位使用
產品簡介:

保有全手動之完整功能, 取消手動機下方之機架以及後方之箱體, 做最簡化之設計, 適合預算不多之客戶。

紫外光源功率 : 350W or 500W 。

曝光光源尺寸 : 4″,5″,6″,8″ 。

波長 : NUV(350W時365nm強度約16~20mW/cm2) 。

均勻度 : +-5% 。

電源供應器 : 定功率控制 。

快門控制計時器 : 0.1~999.9秒。

採用可變倍率鏡頭影像系統,總影像倍率 100X-600X 小型高解析黑白CCD攝影機,

19”LCD螢幕 LED同軸光源打光,影像解析度最佳可達 1um 鏡頭位置調整,可前後左右上下微調約 20mm,

可選擇使用一組或兩組影像系統, 選配快速掃描台,可快速移動鏡頭,前後左右移動約 10cm 。

光罩真空吸盤 : 4” ,5″ 或  6” 下吸式 。

晶圓真空吸盤 : 破片,2” ,3″ ,4″ 或  5” ,具光罩與晶圓平行面校正功能,

晶圓真空吸盤可前後左右調整約 10mm,調整靈敏度 1um 旋轉調整約 5 度,

調整靈敏度0.001度 Z軸可調整約 3mm, 調整靈敏度 1um Z軸具千分表可顯示光罩與晶圓間距,

Z軸可設定對準與曝光兩種間隙,可調整接觸真空吸附力大小, 曝光模式有 Vacuum contact, Soft contact,Proximity,

人工置放晶片與調整晶片位置,取放晶圓時光罩吸盤以手開啟 。

採全手動撥鈕操作系統,以手動控制面板操作 。

操作項目包括光罩與晶圓之更換,光罩與晶圓間隙之切換 光罩與晶圓平行面校正,真空接觸之切換與真空值調整Z軸的歸零,

鏡頭與曝光源左右交替移至對準台上方,並有安全互鎖功能 。

桌上型大底板機座,具調整腳 。

採真空接觸曝光圖形解析最佳可達 1um,近接曝光依光罩與晶圓間隙最佳可達 3~5um 。