曝光机介绍
紫外光源
本公司具平行紫外光源之制作能力,
紫外光源包括灯箱与电源供应器,
光源大小 : 4″, 6″,8″,10″ 及 10″ 以上
光源波长有:NUV ( G,H,I line )
电源供应器功率有:200W、350W、500W、1000W、2000W、3500W、5000W
高压汞灯功率有200W、250W、350W、500W、1000W、2000W、3500W、5000W
对准治具
晶圆与光罩采真空吸附于晶圆座与光罩座上,可制作各种尺寸之晶圆座与光罩座。
晶圆座可做X,Y,Z,δ之调整。
晶圆与光罩可做平行校正以达到曝光最佳之解析度。
曝光模式有真空吸附,直接接触及近接方式。
显微影像系统
显微影像系统采用可调倍率之镜头+CCD显示萤幕的影像系统,
可设计符合对准align key大小的倍率,一般倍率有50X-300X,100X-600X。
镜头可做前后左右之微调以寻找align key,可做上下微调以对焦。
一般采用双镜头设计以方便对准之进行,若采单镜头设计,可选用镜头扫描台做左右快速移动,
背面对准系统亦可采用可调倍率之影像系统,调至小倍率可加快align key之寻找,调至大倍率可得高解析之对准。
控制系统与基座
可采全手动按钮操作系统或人机介界PLC系统,
机构移动采气缸驱动,
Z轴之位置读取可采用百分表,
计时器时间设定 : 0.1-999秒,
基座以厚铝板加上肋板制作以达到足够之刚性。
防震桌
良好之防震桌可避免CCD影像系统进行高倍率之检视时之影像震动问题。
防震桌以气囊隔绝地板之震动。