信息公告

2020.10.22 本公司出货第一台UV LED曝光源

本公司于2020年7月, 正式出货第一台UV LED曝光源

2015.03.30 本公司全自动曝光机参加2015上海半导体展

本公司全自动曝光机参加2015上海半导体展
日期3/17~3/19,
展出业界最高产量机型

2013.07.18 微影设备大厂荷兰ASML 第二季获利增加

微影设备大厂荷兰ASML 第二季获利增加,上调全年营收预测至50亿欧元, 由于第2季营收增加,使其该季获利表现超出市场预期,半导体微影设备大厂ASML也顺势上调全年营收目标。

2013.06.17 本公司参加 2013年国际光电大展

本公司参加 2013年国际光电大展, 展出日期:6/18~6/20, 展出地点:南港展览馆, 摊位: K229, 欢迎各位客户参观。

2013.04.29 应材挤下ASML重回设备龙头

美商应用材料(Applied Materials)在2011年全球半导体设备厂排名上,让位给荷商微影设备大厂ASML,2012年再度重回龙头宝座,2012应材市占14.4%为第一, ASML市占12.8%为第二, 东京威力科创(Tokyo Electron, TEL)市占11.1%为第三,Lam Research在并购Novellus Systems之后市占7.4%为第四, 2012全球半导体设备市场萎缩,设备支出总金额为378亿美元, 较2011年减少16%,其中微影(Lithography)与沉积(Deposition)相关需求低于整体市场,且全球前十大厂的营收比重由2008年的61%上升为2012年的70%, 显示半导体设备厂大者越大情况相当明显。

2012.12.06 华邦电宣布,斥资新台币6.3亿元,向力晶科技购买1台曝光机

记忆体制造厂华邦电宣布,斥资新台币6.3亿元,向力晶科技购买1台曝光机,以因应制程微缩需求。

2012.11.13 微影大厂ASML扩大零组件对台释单

微影大厂ASML向经济部申请研发补助,将获8亿元补助款,林口华亚园区新厂将于2013年初落成启用,不仅将扩大在台荷两地征才,更将加速零组件扩大释单给台厂,包括信邦,家登,帆宣,公准等台厂,ASML亦将严选30位顶尖优秀,富冒险性格人才回荷受训,以做为与台积电合作的种子部队。

2012.10.18 ASML往上游绑桩,共同分担18吋风险

半导体微影设备大厂ASML在获得3大半导体客户新台币2,000亿元投资后,宣布再往上游绑桩,以19.5亿欧元(折合新台币约750亿元)购并美国光源供应商Cymer。ASML表示,8吋转12吋晶圆世代让设备商受太大压力,未来18吋世代必须产业链一起分担风险,EUV技术已证明可行,但瓶颈在光源,目前ASML有三家光源供应商,分别为美国Cymer,日本Gigaphoto及Ushio,各采不同技术,经一段时间合作后,ASML决定购并Cymer,并肯定其LPP(Laser Produced Plasma)光源技术可望成为未来量产主流,ASML指出目前6台Pre-Production的EUV机台(NXE:3100)已出货给台积电,英特尔,三星,海力士,GlobalFoundries,IMEC等,且将在2014推出量产机台(NXE:3300B).目前此机台每小时生产18片晶圆,2014年时可达到69片晶圆,ASML身为18吋晶圆世代关键角色,在获得三大客户投资后再购并光源厂Cymer,这一连串投资把半导体产业链串起来,显示各方都想为18吋晶圆世代解套。

2012.09.07 台积电点名科磊合攻7um E-beam解决方案,与EUV一决高下

台积电日前点名美商半导体设备大厂科磊(KLA-Tencor)为电子束(E-beam)技术上的设备合作伙伴之一,另外还有Mapper Lithography和IMS.未来在7奈米制程有机会与极紫外光(EUV)机台作竞争.针对10nm制程,台积电会以EUV和Double Patterning机台搭配使用,在7nm制程,台积电会在EUV机台和E-beam机台上做出选择。

2012.08.05 台积电宣布加入半导体设备厂艾司摩尔(ASML)客户联合投资专案

台积电宣布加入半导体设备厂艾司摩尔(ASML)客户联合投资专案,以加速极紫外光(EUV)微影技术与18吋晶圆微影设备开发及量产。为让关键微影技术发展顺利,荷兰半导体设备厂ASML于7月9日宣布展开客户联合投资专案,邀请英特尔(Intel)、台积电及三星(Samsung)3大厂参加。英特尔率先决定参与ASML客户联合投资专案,台积电经过近1个月评估,宣布加入ASML客户联合投资专案;根据协议,台积电将投资ASML达8.38亿欧元,取得ASML约5%股权,未来5年并将投入2.76亿欧元,支持ASML的研发计划。