本公司成立于2006年,为一小型之设备制造厂,专精于半导体微影制程之光罩对准曝光机及曝光源之开发制造,从曝光灯箱内的光学设计到各种型式的完整曝光机,本公司经多年努力已完全自行开发完成,并已出货国内外众多客户,深获好评。
一般是先调整前后与旋转,调到两组aign key接近平行,再换手调整前后与左右,不断重覆调整到两组alig key都到定位。
我们的双面对准曝光机,有背对准镜头组可用来做背面对位。
我们的标准曝光源,波长范围为NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三个光束,适用你们的需求。
我们一般使用美国ARC的汞灯泡,若需使用Ushio, Osram等厂牌汞灯泡,我们也可以配合设计制作。
汞灯点灯后,需待灯泡温度上升,水银完全挥发成气态,功率才能到达设定值,若散热风速太强造成灯泡无法升温,功率就无法上升,光束强度也会非常弱。
应该是快速扫描台内部的夹紧汽缸无法确实锁定,请检查气压是否不足,是否有漏气,也有可能是夹紧汽缸的橡胶老化需要更换。