曝光对准台介绍 对准治具 对准治具 晶圆与光罩采真空吸附于晶圆座与光罩座上,可制作各种尺寸之晶圆座与光罩座。晶圆座可做X,Y,Z,δ之调整。晶圆与光罩可做平行校正以达到曝光最佳之解析度。曝光模式有真空吸附,直接接触及近接方式。