本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
汞燈內含水銀,在高熱狀態爆炸,水銀會以霧化狀散開,若燈箱有連接抽風管,可待抽風約30分鐘後再清理燈箱內部,若燈箱散熱風直接排於室內, 應疏散人員並等室內空氣排出後再行清理燈箱內部,清理燈泡碎屑應注意安全勿遭割傷,清除完後可用布把UV鏡與橢圓鏡稍加擦拭, 並注意排除可能造成爆燈的因素,再換上新燈泡重新點燈操作。
光罩與基板欲進行真空吸附,chuck四週會有膜片封住,在對位時,需有吹氣破真空,以防止光罩與基板因膜片產生的真空而貼合阻礙對位進行, 吹氣時膜片會震動而發聲,可調整吹氣的大小以減低音量。
光罩吸盤以真空吸附固定光罩,兩者之間需平整不能有微粒存在才能固定良好,可先用溶劑把兩者清潔,若仍有漏氣,可用鋼片等小工具輕括吸盤表面把殘膠括除,再用溶劑把兩者清潔。
應該是快速掃描台內部的夾緊汽缸無法確實鎖定,請檢查氣壓是否不足,是否有漏氣,也有可能是夾緊汽缸的橡膠老化需要更換。
換燈泡時要戴上手套並避免接觸燈泡中央球體部份,若手指不小心碰到燈泡,可以布沾溶劑清除燈泡上的薄油脂,以免產生爆炸風險。
若您是用在量產線,建議您使用1000W 6吋方曝光機,I-line光強度約40mW/cm2,曝光時間約4秒鐘。