台積電日前點名美商半導體設備大廠科磊(KLA-Tencor)為電子束(E-beam)技術上的設備合作伙伴之一，另外還有Mapper Lithography和IMS.未來在7奈米製程有機會與極紫外光(EUV)機台作競爭.針對10nm製程,台積電會以EUV和Double Patterning機台搭配使用,在7nm製程,台積電會在EUV機台和E-beam機台上做出選擇。