本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
我們可以幫忙維修,要收維修費。
一般正常使用,UV鏡與橢圓鏡可以使用好幾年,若是發生出光強度明顯減弱,可查看橢圓鏡?部表面鍍膜是否有過熱變黑或漏酸腐蝕情形,定再決定是否更換。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
我們有雙面曝光曝光機,可做對位與曝光。
汞燈點燈後,需待燈泡溫度上升,水銀完全揮發成氣態,功率才能到達設定值,若散熱風速太強造成燈泡無法升溫,功率就無法上升,光束強度也會非常弱。
台灣客戶通常是預付30%,交機40%,驗收30%。