本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
一般是先調整前後與旋轉,調到兩組aign key接近平行,再換手調整前後與左右,不斷重覆調整到兩組alig key都到定位。
汞燈點燈後,由於燈泡剛亮,溫度尚低,水銀未能揮發成氣態,導電介值仍主要是內部之氣體,在水銀揮發前的過渡期,電壓電流會不斷變動。
光罩與基板欲進行真空吸附,chuck四週會有膜片封住,在對位時,需有吹氣破真空,以防止光罩與基板因膜片產生的真空而貼合阻礙對位進行, 吹氣時膜片會震動而發聲,可調整吹氣的大小以減低音量。
我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。
若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。
可能是因為燈泡溫度一直過冷,裡面的水銀無法揮發,請檢查散熱風扇或抽風管,降低燈箱散熱風速,讓燈泡能熱起來。