本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
晶圓的置放可用平嘴鑷子夾晶圓邊,若是線路對微粒容忍比較高的製程甚至可以用載手套的手取放晶圓。
還未點燈前電壓顯示應該有超過100V的電壓值,若沒有電壓,可能是後方溫度保護開關的線沒接好,或是電源供應器本身故障。
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小,以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。
我們可以幫忙維修,要收維修費。
若您是用在量產線,建議您使用1000W 6吋方曝光機,I-line光強度約40mW/cm2,曝光時間約4秒鐘。
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。