本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
一般正常使用,UV鏡與橢圓鏡可以使用好幾年,若是發生出光強度明顯減弱,可查看橢圓鏡?部表面鍍膜是否有過熱變黑或漏酸腐蝕情形,定再決定是否更換。
我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。
汞燈點燈後,由於燈泡剛亮,溫度尚低,水銀未能揮發成氣態,導電介值仍主要是內部之氣體,在水銀揮發前的過渡期,電壓電流會不斷變動。
我們偶爾會購進中古機,但通常沒有存貨。
晶圓的置放可用平嘴鑷子夾晶圓邊,若是線路對微粒容忍比較高的製程甚至可以用載手套的手取放晶圓。
我們可以幫忙維修,要收維修費。