本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
光罩以真空吸附於吸盤上,下吸式吸盤先以手由下方托著光罩,將光罩貼附於吸盤下方,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空,上吸式吸盤先將光罩置於吸盤上,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空。
汞燈泡位於橢圓鏡內之電極因被橢圓鏡包圍,散熱不佳,需加裝散熱器以加強散熱。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
應該是快速掃描台內部的夾緊汽缸無法確實鎖定,請檢查氣壓是否不足,是否有漏氣,也有可能是夾緊汽缸的橡膠老化需要更換。
若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。
汞燈內含水銀,在高熱狀態爆炸,水銀會以霧化狀散開,若燈箱有連接抽風管,可待抽風約30分鐘後再清理燈箱內部,若燈箱散熱風直接排於室內, 應疏散人員並等室內空氣排出後再行清理燈箱內部,清理燈泡碎屑應注意安全勿遭割傷,清除完後可用布把UV鏡與橢圓鏡稍加擦拭, 並注意排除可能造成爆燈的因素,再換上新燈泡重新點燈操作。