本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
做晶圓破片對位時,兩支鏡頭因間距限制,無法同時看到左右影像,適合使用一支鏡頭,左右調整移動鏡頭來觀看對準情形,可配合使用快速掃描台加快對位速度。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。
若您的對位精度不需要很高,熟練的操作員一分鐘最快可以做完3片。
若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。
同軸打光適用於有高反射率的金屬的align key,是影像系統打光的bright field,影像品質較佳,環形打光適用於align key有高度差的構造, 是影像系統打光的dark field,影像品質通常較差。