本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
我們的雙面對準曝光機,有背對準鏡頭組可用來做背面對位。
我們有簡易曝光機,沒有影像對位功能,可適合您的應用。
我們有雙面曝光曝光機,可做對位與曝光。
手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。
晶圓的置放可用平嘴鑷子夾晶圓邊,若是線路對微粒容忍比較高的製程甚至可以用載手套的手取放晶圓。
若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。