本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
可調整倍率使align key的影像約佔螢幕的1/4~1/2大小,以容易找到align key的前提下儘量提高倍率以增加解析度。
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。
光罩以真空吸附於吸盤上,下吸式吸盤先以手由下方托著光罩,將光罩貼附於吸盤下方,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空,上吸式吸盤先將光罩置於吸盤上,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空。
手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
我們有簡易曝光機,沒有影像對位功能,可適合您的應用。