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本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
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常見問題
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光罩吸盤吸真空固定光罩時會有漏氣聲，如何排除?
光罩吸盤以真空吸附固定光罩，兩者之間需平整不能有微粒存在才能固定良好，可先用溶劑把兩者清潔，若仍有漏氣，可用鋼片等小工具輕括吸盤表面把殘膠括除，再用溶劑把兩者清潔。
請問我的晶圓需要用背面的align key來做對位，有適合的機型嗎?
我們的雙面對準曝光機，有背對準鏡頭組可用來做背面對位。
開啟電源供應器電源，無法點燈，切換電壓顯示，也沒有電壓，請問是那邊故障?
還未點燈前電壓顯示應該有超過100V的電壓值，若沒有電壓，可能是後方溫度保護開關的線沒接好，或是電源供應器本身故障。
光罩與晶圓進行真空吸附時，以眼觀看發覺吸附不良，真空表的值也比正常值小，真空膜片也沒有內凹，需如何處理?
先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換，若真空膜片良好也放置妥當，可再試著調整吸附真空，若情形無改善，可能是管路阻塞，需拆管路清潔。
你們的NUV曝光源含有三種光束，我的光阻是I-line光阻，需要用濾鏡把另兩種光束濾掉嗎?
一般曝光製程不需使用濾鏡，I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常，若您要測試光阻的材料性能，可以用濾鏡把另兩道光束濾除，以減少測試因素。
對準台光罩吸盤蓋下後，會聽到chuck有聲音，正常嗎?
光罩與基板欲進行真空吸附，chuck四週會有膜片封住，在對位時，需有吹氣破真空，以防止光罩與基板因膜片產生的真空而貼合阻礙對位進行， 吹氣時膜片會震動而發聲，可調整吹氣的大小以減低音量。