本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
我們的雙面對準曝光機,有背對準鏡頭組可用來做背面對位。
一般是先調整前後與旋轉,調到兩組aign key接近平行,再換手調整前後與左右,不斷重覆調整到兩組alig key都到定位。
還未點燈前電壓顯示應該有超過100V的電壓值,若沒有電壓,可能是後方溫度保護開關的線沒接好,或是電源供應器本身故障。
我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。
我們有雙面曝光曝光機,可做對位與曝光。
手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。