本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
晶圓的置放可用平嘴鑷子夾晶圓邊,若是線路對微粒容忍比較高的製程甚至可以用載手套的手取放晶圓。
做晶圓破片對位時,兩支鏡頭因間距限制,無法同時看到左右影像,適合使用一支鏡頭,左右調整移動鏡頭來觀看對準情形,可配合使用快速掃描台加快對位速度。
應該是快速掃描台內部的夾緊汽缸無法確實鎖定,請檢查氣壓是否不足,是否有漏氣,也有可能是夾緊汽缸的橡膠老化需要更換。
手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。
我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。