本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
請檢查散熱風扇,可能是風路被擋住造成燈箱內部過熱而啟動溫度保護開關,造成電源供應器跳脫。
2KW高壓汞燈是一種汞氙燈,點燈時需要2~3萬伏的高壓,電源供應器產生此高壓過程會有響亮電擊聲,屬正常。
做晶圓破片對位時,兩支鏡頭因間距限制,無法同時看到左右影像,適合使用一支鏡頭,左右調整移動鏡頭來觀看對準情形,可配合使用快速掃描台加快對位速度。
約要一個星期來修。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
光罩與基板欲進行真空吸附,chuck四週會有膜片封住,在對位時,需有吹氣破真空,以防止光罩與基板因膜片產生的真空而貼合阻礙對位進行, 吹氣時膜片會震動而發聲,可調整吹氣的大小以減低音量。