本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。
汞燈點燈後,由於燈泡剛亮,溫度尚低,水銀未能揮發成氣態,導電介值仍主要是內部之氣體,在水銀揮發前的過渡期,電壓電流會不斷變動。
我們的雙面對準曝光機,有背對準鏡頭組可用來做背面對位。
一般正常使用,UV鏡與橢圓鏡可以使用好幾年,若是發生出光強度明顯減弱,可查看橢圓鏡?部表面鍍膜是否有過熱變黑或漏酸腐蝕情形,定再決定是否更換。
汞燈泡位於橢圓鏡內之電極因被橢圓鏡包圍,散熱不佳,需加裝散熱器以加強散熱。