微影設備大廠荷蘭ASML 第二季獲利增加,上調全年營收預測至50億歐元, 由於第2季營收增加，使其該季獲利表現超出市場預期，半導體微影設備大廠ASML也順勢上調全年營收目標。

本公司參加 2013年國際光電大展, 展出日期:6/18~6/20, 展出地點:南港展覽館, 攤位: K229, 歡迎各位客戶參觀。

美商應用材料(Applied Materials)在2011年全球半導體設備廠排名上，讓位給荷商微影設備大廠ASML，2012年再度重回龍頭寶座，2012應材市佔14.4%為第一, ASML市佔12.8%為第二, 東京威力科創(Tokyo Electron, TEL)市佔11.1%為第三,Lam Research在併購Novellus Systems之後市佔7.4%為第四, 2012全球半導體設備市場萎縮,設備支出總金額為378億美元, 較2011年減少16%,其中微影(Lithography)與沈積(Deposition)相關需求低於整體市場,且全球前十大廠的營收比重由2008年的61%上升為2012年的70%, 顯示半導體設備廠大者越大情況相當明顯。