對準治具

晶圓與光罩採真空吸附於晶圓座與光罩座上，可製作各種尺寸之晶圓座與光罩座。
晶圓座可做X，Y，Z，δ之調整。
晶圓與光罩可做平行校正以達到曝光最佳之解析度。
曝光模式有真空吸附，直接接觸及近接方式。