紫外光源功率 : 350W or 500W 。

曝光光源尺寸 : 4″， 5″ ，6″ ， 8″。

波长 : NUV(350W时365nm强度约16~20mW/cm2) 。

均匀度 : +-5% 。

电源供应器 : 定功率控制 。

快门控制计时器 : 0.1~999.9秒。

采用可变倍率镜头影像系统，总影像倍率100X-600X， 小型高解析黑白CCD摄影机，

19”LCD荧幕 LED同轴光源打光，影像解析度最佳可达 1um 镜头位置调整，可前后左右上下微调约 20mm ，

可选择使用一组或两组影像系统， 选配快速扫描台，可快速移动镜头，前后左右移动约 10cm 。

光罩真空吸盘 : 4”，5″， 6” 下吸式 。

晶圆真空吸盘 : 破片，2”，3″ ，4″ 或  5” ，具光罩与晶圆平行面校正功能，

晶圆真空吸盘可前后左右调整约 10mm，调整灵敏度 1um 旋转调整约 5度，

调整灵敏度 0.001度 Z轴可调整约 3mm， 调整灵敏度 1um， Z轴具千分表可显示光罩与晶圆间距， Z轴可设定对准与曝光两种间隙，

可调整接触真空吸附力大小， 曝光模式有 Vacuum contact，Soft contact， Proximity，

人工置放晶片与调整晶片位置，取放晶圆时光罩吸盘以手开启。

采全手动拨钮操作系统以手动控制面板操作。

操作项目包括光罩与晶圆之更换，光罩与晶圆间隙之切换， 光罩与晶圆平行面校正，真空接触之切换与真空值调整Z轴的归零，

镜头与曝光源左右交替移至对准台上方，并有安全互锁功能。

桌上型大底板机座，具调整脚。

采真空接触曝光图形解析最佳可达 1um， 近接曝光依光罩与晶圆间隙最佳可达 3~5um。