紫外光源机型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W,3500W,5000W 。
曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″ 。
波长 : NUV(含365nm, 400nm, 435nm) ,光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口径)。
均匀度: +-3~5% ,高压汞灯泡及电源供应器。
采用可变倍率镜头方便对准操作,标准倍率 50X-300X, 配合CCD影像系统,
19吋LCD萤幕, 打光有LED同轴光或环形光, 观测的两点间距 4cm-15cm ,
可选配镜头扫描台以快速移动镜头, 可选配背面对准影像系统。
光罩真空吸盘 : 上吸式或下吸式4″,5″,6″, 7″, 9″ 。
晶圆真空Chuck : 2″, 4″, 6″,8″圆形或方形, 具光罩晶圆水平校正功能。
曝光模式有 : 真空接触式与近接式,可调整真空吸附力大小, X,Y轴调整 10mm,调整解析度 2um, Z轴可调整 5mm,
千分表解析度 1um, 上光罩开启以取放基板。
产量依对位精度及曝光时间而不同最快可达每分钟曝三片,
采真空接触曝光图形解析最佳可达1um以内(正光阻厚 1um),
采近接式曝光依晶圆与光罩间距设定最佳约在 3~5um。