全自动光罩对准曝光机

适合工业界24小时量产使用
產品簡介:

全自动机型之晶圆传送为自动输入与输出, 自动对位曝光,可一天24小时操作,减少人力需求,提高可靠性,增加产量, 本公司开发之高产量全自动曝光机, 对位制程每小时可产出250片以, 无对位制程每小时可产出350片以上, 产量为业界最高,两倍于其他厂牌机型。

紫外光源机型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W,3500W,5000W 。

曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″ 。

波长 : NUV(含365nm,400nm,435nm),光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口径) 。

均匀度: +-3~5%,高压汞灯泡及电源供应器。

采用固定倍率镜头, 预对台一支或两支镜头做粗定位, 进片位置两支镜头做初步对位, 曝光位置两支镜头做精密对位。

相机可采类比或数位,可使用百万昼素相机, 由PC之客制化对位软体,做影像自动对位。

影像打光有 : LED同轴光或环形光, 可选背面对准影像系统机型。

可将来自输入台的基板作靠边粗定位, 以便进片手臂送至对准台做精密对准。

左手小手臂可输入预对台上之基板至对准台, 与取出曝光后之基板至输出台。

晶舟输入台由基板推入器将基板传至预对台.曝光后的基板, 由导出台传至输出台之晶舟,未完成之基本移至退片台。

光罩真空吸盘 : 上吸式或下吸式 4″, 5″,6″,9″ 。

晶圆真空吸盘 : 2″, 4″, 6″,8″ 具光罩晶圆水平校正功能。

曝光模式可选 : 真空接触式与近接式, X,Y,T轴马达调整 10mm,解析度 1um, Z轴马达调整 5mm,解析度 1um,

上光罩开启以取放基板, 自动对准动作依自动对准软体计算结果由PLC控制调整。

PLC及人机界面控制系统和工业电脑之自动对准软体, 作基板输出入及对准曝光程序自动操作。

具四个防震气垫,具调整脚及移动轮, 铝挤型机架加铝板及黄色PVC抗静电包覆机台, 开数个操作与维修门窗及视窗。

产量依对位精度及曝光时间而不同, 近接曝光机型最快可达每分钟 5片,

采真空接触曝光图形解析最佳可达 1um以内, 采近接式曝光依晶圆与光罩间距设定约在 5~10um。