2012-09-07
台积电点名科磊合攻7um E-beam解决方案,与EUV一决高下

台积电日前点名美商半导体设备大厂科磊(KLA-Tencor)为电子束(E-beam)技术上的设备合作伙伴之一,另外还有Mapper Lithography和IMS.未来在7奈米制程有机会与极紫外光(EUV)机台作竞争.针对10nm制程,台积电会以EUV和Double Patterning机台搭配使用,在7nm制程,台积电会在EUV机台和E-beam机台上做出选择。