记忆体制造厂华邦电宣布，斥资新台币6.3亿元，向力晶科技购买1台曝光机,以因应制程微缩需求。

微影大厂ASML向经济部申请研发补助,将获8亿元补助款,林口华亚园区新厂将于2013年初落成启用,不仅将扩大在台荷两地征才,更将加速零组件扩大释单给台厂,包括信邦,家登,帆宣,公准等台厂,ASML亦将严选30位顶尖优秀,富冒险性格人才回荷受训,以做为与台积电合作的种子部队。

半导体微影设备大厂ASML在获得3大半导体客户新台币2,000亿元投资后，宣布再往上游绑桩，以19.5亿欧元(折合新台币约750亿元)购并美国光源供应商Cymer。ASML表示，8吋转12吋晶圆世代让设备商受太大压力,未来18吋世代必须产业链一起分担风险,EUV技术已证明可行,但瓶颈在光源,目前ASML有三家光源供应商,分别为美国Cymer,日本Gigaphoto及Ushio,各采不同技术,经一段时间合作后,ASML决定购并Cymer,并肯定其LPP(Laser Produced Plasma)光源技术可望成为未来量产主流,ASML指出目前6台Pre-Production的EUV机台(NXE:3100)已出货给台积电,英特尔,三星,海力士,GlobalFoundries,IMEC等,且将在2014推出量产机台(NXE:3300B).目前此机台每小时生产18片晶圆,2014年时可达到69片晶圆,ASML身为18吋晶圆世代关键角色,在获得三大客户投资后再购并光源厂Cymer,这一连串投资把半导体产业链串起来,显示各方都想为18吋晶圆世代解套。

台积电日前点名美商半导体设备大厂科磊(KLA-Tencor)为电子束(E-beam)技术上的设备合作伙伴之一，另外还有Mapper Lithography和IMS.未来在7奈米制程有机会与极紫外光(EUV)机台作竞争.针对10nm制程,台积电会以EUV和Double Patterning机台搭配使用,在7nm制程,台积电会在EUV机台和E-beam机台上做出选择。

台积电宣布加入半导体设备厂艾司摩尔(ASML)客户联合投资专案，以加速极紫外光(EUV)微影技术与18吋晶圆微影设备开发及量产。为让关键微影技术发展顺利，荷兰半导体设备厂ASML于7月9日宣布展开客户联合投资专案，邀请英特尔(Intel)、台积电及三星(Samsung)3大厂参加。英特尔率先决定参与ASML客户联合投资专案，台积电经过近1个月评估，宣布加入ASML客户联合投资专案；根据协议，台积电将投资ASML达8.38亿欧元，取得ASML约5%股权，未来5年并将投入2.76亿欧元，支持ASML的研发计划。

　　英特尔宣布投资微影设备大厂 ASML (艾司摩尔)41亿美元，该公司初步将投资艾司摩尔约21亿美元，取得10%股权，之后再以约10亿美元，取得另外5%股权，艾司摩尔的设备在半导体微影制程中扮演关键角色。这类的机器需要数年的准备才能交货。英特尔及其他竞争对手从目前的12吋制程转换至18吋，必须升级设备。转换至18吋制程可以提高产量，降低生产成本。由ASML发起的合作计划投资邀约也向台积电、三星招手。

“国际光电大展”首办于1984年，是台湾光机电产业的年度盛会及行销舞台。本展以光电科技为核心，整合半导体、电子、光通讯、雷射、光学、精密机械等关联领域；完整展出光电应用产业之材料、元/组件、应用产品、生产设备、厂务设施及软硬体技术。

国 际光电大展一直为台湾光电产业搭建进军市场的展现舞台。持续受到厂商的支持和参与，并随着台湾光电技术的突飞猛进，使得国际光电大展在国际上熠熠生辉，让 台湾的光电产品备受全球瞩目。现已成为全球重要的光电展览之一，更是业界一年一度不可错过的展览，欢迎各界踊跃参与此产业盛会，一同创造台湾光电新价值。

2012-06-17 01:27 工商时报 【记者杨晓芳／台北报导】

一年一度2012台北国际光电周暨台湾平面显示器展，将自19日（周二）至21日在台北南港展览馆登场，今年包括显示器、LED、太阳能、光通讯、光学元件共计820家厂商参展，相关概念股成焦点，主办单位预估，今年将可突破4万人次参观，而大陆参访团也将超过500人，阵容创历年之最。今年光电大展除了大陆参访团来参展、观展之外，来自大陆的采访买主、产业联盟团体合计申请入台有36团，包括大陆京东方集团今年也首度来台，成为重量级关键买主。主办单位之一的外贸协会邀请到“中国电子视像行业协会”副会长白为民，另一方面，LED相关还有国家半导体照明工程研发及产业联盟、香港光机电会、中国机电产品进出口商会、中国OLED产业联盟等。 　

台湾平面显示器展，今年特别规画AMOLED主题馆与触控专区，共计204家厂商参展。今年年底微软将上市的作业系统Win8将让触控技术扩大延伸到更多元的终端产品上，尤其多了笔电、PC产品应用，让“触控”再掀热潮，也让触控相关研讨会，成了今年面板显示器展重头戏，包括F-TPK（宸鸿）总裁孙大明演讲“后PC时代的触控技术”；触控晶片厂义隆电、剑扬皆以触控面板晶片为主题畅谈市场及技术发展。AMOLED主题馆则有来自大陆的天马微、韩国KOLON及台湾铼宝、智晶、曜凌等厂商。 　

LED照明展，为今年台北国际光电周规模最大产业个展，参展厂家达253家，今年特别规画多场LED照明相关论坛及国际研讨会，包括亿光、晶电、璨圆、台达电、佳世达、飞利浦等厂商皆为主讲者；此外，台湾农委会也特别指导参展植物工厂展，将设置LED应用于植物工厂的体验馆。太阳能光电专区，今年参展家数共计65家，有经济部能源局主讲阳光屋顶百万尘计划，并邀请屏东、高雄、台南市、云林县、台中市进行太阳光电城市论坛。 　除上述3大个展外，光电周加计其他个展包括OPTO Taiwan、光通讯展、前瞻学术专区以及海峡两岸光电展，今年共计820家厂商，多达2,018个摊位规模。

德扬光电研制紫外光平行曝光源、高解析光罩对准曝光机等，获得研发单位及产业界采用，在陶瓷散热元件、石英元件、精密金属膜仁、LED、功率二极体、雷射二极体及手机触控面板等产业均有出货实绩。德扬经理朱仁亮表示，德扬制造光罩对准曝光机及曝光源已有6年，产品有适合研究实验室的全手动机型，及产业界生产线的半自动与全自动机型，并持续研发新机种，去年新推出近接式全自动曝光机，单曝光源单对准台设计最高产能可达每分钟6片基板，为其他厂牌的2~3倍产能。德扬的紫外光平行曝光源功率350瓦至5,000瓦，出光口径4吋到12吋；光罩对准曝光机有单面、双面对准、双面曝光等多种制程功能，多种机型可供选择。

台湾曝光机厂在微米等级线宽制程、各式电子元件使用的曝光机技术已可掌握，具有价廉物美与在地服务优势，逐渐取代国外设备；德扬以小而美为经营定位，一步一脚印投入研发制造，在大厂竞争中找到利基市场。德扬的光罩对准曝光机适用于LED及二极体等电子元件，及陶瓷、石英、玻璃、薄金属板等各种基板线路制作，获得企业信赖及订单，学校研究实验室及产业界采用后均给予正面评价。