光罩对准曝光机

全自动机型之晶圆传送为自动输入与输出，自动对位曝光，可一天24小时操作，减少人力需求，提高可靠性，增加产量，… 详细内容

用PLC程式控制，使多个手动动作能连动，减少手动操作的程序，系统简单，性能可靠，适合量产线使用。… 详细内容

全手动操作，每一个动作可单独操作，适合实验室研究使用或量产前制程开发使用。… 详细内容

保有全手动之完整功能，取消手动机下方之机架以及后方之箱体，做最简化之设计，适合预算不多之客户。… 详细内容

对于无法正常正面对位之制程，可以采用背面对位方式来对位，双面对准曝光机包含有正面对位及背面对位两套对位影像系… 详细内容

双面曝光曝光机采用上及下两组曝光源，欲曝光机基板夹于上下光罩之间同时曝基板上下两面，对双面制程之基板之产能… 详细内容