本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
換燈泡時要戴上手套並避免接觸燈泡中央球體部份,若手指不小心碰到燈泡,可以布沾溶劑清除燈泡上的薄油脂,以免產生爆炸風險。
影像倍率加大則影像景深會變小,可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像,但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。
還未點燈前電壓顯示應該有超過100V的電壓值,若沒有電壓,可能是後方溫度保護開關的線沒接好,或是電源供應器本身故障。
台灣客戶通常是預付30%,交機40%,驗收30%。
若您是用在量產線,建議您使用1000W 6吋方曝光機,I-line光強度約40mW/cm2,曝光時間約4秒鐘。
我們的雙面對準曝光機,有背對準鏡頭組可用來做背面對位。