本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
光罩以真空吸附於吸盤上,下吸式吸盤先以手由下方托著光罩,將光罩貼附於吸盤下方,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空,上吸式吸盤先將光罩置於吸盤上,側邊頂住定位小螺絲,再開啟真空。
曝光源燈箱內部有溫度保護開關,以防止燈泡過熱爆炸,若是燈箱散熱不良,溫度溫度到達保護開關的設定,電源供應器就會跳脫。
影像倍率加大則影像景深會變小,可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像,但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。
汞燈泡位於橢圓鏡內之電極因被橢圓鏡包圍,散熱不佳,需加裝散熱器以加強散熱。
我們有簡易曝光機,沒有影像對位功能,可適合您的應用。
汞燈泡使用時間久後,除強度降低,也會有燈泡表面過熱與熄燈或點不著等風險,建議使用時數到時就要準備更換。