本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。
做晶圓破片對位時,兩支鏡頭因間距限制,無法同時看到左右影像,適合使用一支鏡頭,左右調整移動鏡頭來觀看對準情形,可配合使用快速掃描台加快對位速度。
2KW高壓汞燈是一種汞氙燈,點燈時需要2~3萬伏的高壓,電源供應器產生此高壓過程會有響亮電擊聲,屬正常。
若您的對位精度不需要很高,熟練的操作員一分鐘最快可以做完3片。
影像倍率加大則影像景深會變小,可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像,但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。
先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換,若真空膜片良好也放置妥當,可再試著調整吸附真空,若情形無改善,可能是管路阻塞,需拆管路清潔。