本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。
先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換,若真空膜片良好也放置妥當,可再試著調整吸附真空,若情形無改善,可能是管路阻塞,需拆管路清潔。
影像倍率加大則影像景深會變小,可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像,但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。
換燈泡時要戴上手套並避免接觸燈泡中央球體部份,若手指不小心碰到燈泡,可以布沾溶劑清除燈泡上的薄油脂,以免產生爆炸風險。
一般正常使用,UV鏡與橢圓鏡可以使用好幾年,若是發生出光強度明顯減弱,可查看橢圓鏡?部表面鍍膜是否有過熱變黑或漏酸腐蝕情形,定再決定是否更換。
若您的對位精度不需要很高,熟練的操作員一分鐘最快可以做完3片。