本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。
汞燈點燈後,需待燈泡溫度上升,水銀完全揮發成氣態,功率才能到達設定值,若散熱風速太強造成燈泡無法升溫,功率就無法上升,光束強度也會非常弱。
我們一般使用美國ARC的汞燈泡,若需使用Ushio, Osram等廠牌汞燈泡,我們也可以配合設計製作。
我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。
可以考慮我們的桌上型曝光機。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。