我們提供最專業的設計與服務

本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。

  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機,對位製程每小時可產出250片以上,無對位製程每小時可產出350片以上,全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出,產量為業界最高,兩倍於其他廠牌機型。

  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器,以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制,可使光強輸出長時間穩定,以均勻化的透鏡陣列產生的光束,在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值,內部電磁接觸器做過載保護,後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源,以及燈箱過溫保護互鎖線路,操作性能良好,穩定性佳,耐用度高,最適合生產線使用。

  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

常見問題 More
請問可以向你們購買曝光源組裝到我們的機台上再交貨給客戶嗎?

若你們的機台與我們的產品沒有業務衝突,歡迎購買我們的曝光源。

曝光源點燈後,電源供應器顯示的功率值一直很低,長時間仍無法到達設定值,請問是那邊故障?

汞燈點燈後,需待燈泡溫度上升,水銀完全揮發成氣態,功率才能到達設定值,若散熱風速太強造成燈泡無法升溫,功率就無法上升,光束強度也會非常弱。

請問你們曝光燈箱使用那家的高壓汞燈?

我們一般使用美國ARC的汞燈泡,若需使用Ushio, Osram等廠牌汞燈泡,我們也可以配合設計製作。

請問我的光阻有I-line與H-line兩種,請問你們有適合的曝光源嗎?

我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。

請問我們是經費不多的半導體實驗室,想買一台基本功能都有的曝光機,你們有適合的機型嗎?

可以考慮我們的桌上型曝光機。

你們的NUV曝光源含有三種光束,我的光阻是I-line光阻,需要用濾鏡把另兩種光束濾掉嗎?

一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。