本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
可能是因為燈泡溫度一直過冷,裡面的水銀無法揮發,請檢查散熱風扇或抽風管,降低燈箱散熱風速,讓燈泡能熱起來。
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。
我們的標準曝光源,波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line, H-line, G-line三個光束,適用你們的需求。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
依燈泡廠的規格,350W燈泡是600小時,500W燈泡是800小時,1000W以上燈泡是1000小時左右。
曝光源燈箱內部有溫度保護開關,以防止燈泡過熱爆炸,若是燈箱散熱不良,溫度溫度到達保護開關的設定,電源供應器就會跳脫。