我們提供最專業的設計與服務
本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
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常見問題
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我的快速掃描台無法良好鎖定，在鏡頭座汽缸移動時，鏡頭的定位會左右偏移，請問是那邊故障?
應該是快速掃描台內部的夾緊汽缸無法確實鎖定，請檢查氣壓是否不足，是否有漏氣，也有可能是夾緊汽缸的橡膠老化需要更換。
對準台進行對位調整時，前後左右旋轉三軸的調整順序是如何?
一般是先調整前後與旋轉，調到兩組aign key接近平行，再換手調整前後與左右，不斷重覆調整到兩組alig key都到定位。
請問我只要測光阻材料在不同gap時曝光的特性，有適合的機型嗎?
我們有簡易曝光機，沒有影像對位功能，可適合您的應用。
請問同軸打光與環形打光的使用時機各為何?
同軸打光適用於有高反射率的金屬的align key，是影像系統打光的bright field，影像品質較佳，環形打光適用於align key有高度差的構造， 是影像系統打光的dark field，影像品質通常較差。
使用I-line濾鏡把NUV的另兩種波長濾除，為什麼I-line的強度會降低
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長，而讓約70%的I-line波長通過，但難免會擋掉一小部份I-line波長，目前尚無100%通過的濾鏡。
請問你們有demo機可以試用嗎?
我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。