本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
可以考慮我們的桌上型曝光機。
一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。
若您是用在量產線,建議您使用1000W 6吋方曝光機,I-line光強度約40mW/cm2,曝光時間約4秒鐘。
若您的對位精度不需要很高,熟練的操作員一分鐘最快可以做完3片。
手動機通常是下單後2~3個月,全自動機通常是下單後5~6個月。
2KW高壓汞燈是一種汞氙燈,點燈時需要2~3萬伏的高壓,電源供應器產生此高壓過程會有響亮電擊聲,屬正常。