我們提供最專業的設計與服務

本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。

  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機,對位製程每小時可產出250片以上,無對位製程每小時可產出350片以上,全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出,產量為業界最高,兩倍於其他廠牌機型。

  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器,以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制,可使光強輸出長時間穩定,以均勻化的透鏡陣列產生的光束,在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值,內部電磁接觸器做過載保護,後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源,以及燈箱過溫保護互鎖線路,操作性能良好,穩定性佳,耐用度高,最適合生產線使用。

  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

常見問題 More
開啟電源供應器電源,無法點燈,切換電壓顯示,也沒有電壓,請問是那邊故障?

還未點燈前電壓顯示應該有超過100V的電壓值,若沒有電壓,可能是後方溫度保護開關的線沒接好,或是電源供應器本身故障。

你們的NUV曝光源含有三種光束,我的光阻是I-line光阻,需要用濾鏡把另兩種光束濾掉嗎?

一般曝光製程不需使用濾鏡,I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常,若您要測試光阻的材料性能,可以用濾鏡把另兩道光束濾除,以減少測試因素。

請問你們曝光燈箱使用那家的高壓汞燈?

我們一般使用美國ARC的汞燈泡,若需使用Ushio, Osram等廠牌汞燈泡,我們也可以配合設計製作。

我要曝光的基板是6吋方, I-line曝光的能量約150mJ/cm2,請問適合的曝光源是那種?

若您是用在量產線,建議您使用1000W 6吋方曝光機,I-line光強度約40mW/cm2,曝光時間約4秒鐘。

請問我的晶圓需要用背面的align key來做對位,有適合的機型嗎?

我們的雙面對準曝光機,有背對準鏡頭組可用來做背面對位。

請問同軸打光與環形打光的使用時機各為何?

同軸打光適用於有高反射率的金屬的align key,是影像系統打光的bright field,影像品質較佳,環形打光適用於align key有高度差的構造, 是影像系統打光的dark field,影像品質通常較差。