本公司成立於2006年,為一小型之設備製造廠,專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造,從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機,本公司經多年努力已完全自行開發完成,並已出貨國內外眾多客戶,深獲好評。
換燈泡時要戴上手套並避免接觸燈泡中央球體部份,若手指不小心碰到燈泡,可以布沾溶劑清除燈泡上的薄油脂,以免產生爆炸風險。
光罩與基板欲進行真空吸附,chuck四週會有膜片封住,在對位時,需有吹氣破真空,以防止光罩與基板因膜片產生的真空而貼合阻礙對位進行, 吹氣時膜片會震動而發聲,可調整吹氣的大小以減低音量。
曝光源燈箱內部有溫度保護開關,以防止燈泡過熱爆炸,若是燈箱散熱不良,溫度溫度到達保護開關的設定,電源供應器就會跳脫。
I-line濾鏡會擋掉大部份H-line與G-line兩種波長,而讓約70%的I-line波長通過,但難免會擋掉一小部份I-line波長,目前尚無100%通過的濾鏡。
我們有雙面曝光曝光機,可做對位與曝光。
我們有簡易曝光機,沒有影像對位功能,可適合您的應用。