我們提供最專業的設計與服務

本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。

聯絡我們

  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機，對位製程每小時可產出250片以上，無對位製程每小時可產出350片以上，全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出，產量為業界最高，兩倍於其他廠牌機型。

    詳細內容

  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器，以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制，可使光強輸出長時間穩定，以均勻化的透鏡陣列產生的光束，在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

    詳細內容

  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值，內部電磁接觸器做過載保護，後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源，以及燈箱過溫保護互鎖線路，操作性能良好，穩定性佳,耐用度高，最適合生產線使用。

    詳細內容

  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

    詳細內容
訊息公告 More
常見問題 More
置放晶圓要用什麼工具?

晶圓的置放可用平嘴鑷子夾晶圓邊，若是線路對微粒容忍比較高的製程甚至可以用載手套的手取放晶圓。

光罩與晶圓進行真空吸附時，以眼觀看發覺吸附不良，真空表的值也比正常值小，真空膜片也沒有內凹，需如何處理?

先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換，若真空膜片良好也放置妥當，可再試著調整吸附真空，若情形無改善，可能是管路阻塞，需拆管路清潔。

請問我的光阻有I-line與H-line兩種，請問你們有適合的曝光源嗎?

我們的標準曝光源，波長範圍為NUV(Near UV)含有I-line， H-line， G-line三個光束，適用你們的需求。

我把鏡頭倍率調大希望提高影像解析度，但光罩與基板的影像無法同時清晰，請問有什麼辦法?

影像倍率加大則影像景深會變小，可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像，但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。

我在換燈泡時手指不小心碰到燈泡，請問要如何處理?

換燈泡時要戴上手套並避免接觸燈泡中央球體部份，若手指不小心碰到燈泡，可以布沾溶劑清除燈泡上的薄油脂，以免產生爆炸風險。

請問你們還有中古曝光機或中古曝光源嗎?

我們偶爾會購進中古機，但通常沒有存貨。