我們提供最專業的設計與服務
本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
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常見問題
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你們的NUV曝光源含有三種光束，我的光阻是I-line光阻，需要用濾鏡把另兩種光束濾掉嗎?
一般曝光製程不需使用濾鏡，I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常，若您要測試光阻的材料性能，可以用濾鏡把另兩道光束濾除，以減少測試因素。
光罩與晶圓進行真空吸附時，以眼觀看發覺吸附不良，真空表的值也比正常值小，真空膜片也沒有內凹，需如何處理?
先檢查真空膜片是否有裂痕而需更換，若真空膜片良好也放置妥當，可再試著調整吸附真空，若情形無改善，可能是管路阻塞，需拆管路清潔。
請問高壓汞燈電源供應器維修需時多久?
約要一個星期來修。
置放晶圓要用什麼工具?
晶圓的置放可用平嘴鑷子夾晶圓邊，若是線路對微粒容忍比較高的製程甚至可以用載手套的手取放晶圓。
請問你們有demo機可以試用嗎?
我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。
對準台光罩吸盤蓋下後，會聽到chuck有聲音，正常嗎?
光罩與基板欲進行真空吸附，chuck四週會有膜片封住，在對位時，需有吹氣破真空，以防止光罩與基板因膜片產生的真空而貼合阻礙對位進行， 吹氣時膜片會震動而發聲，可調整吹氣的大小以減低音量。