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本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
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常見問題
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你們的NUV曝光源含有三種光束，我的光阻是I-line光阻，需要用濾鏡把另兩種光束濾掉嗎?
一般曝光製程不需使用濾鏡，I-line光阻使用NUV光源曝光效果正常，若您要測試光阻的材料性能，可以用濾鏡把另兩道光束濾除，以減少測試因素。
請問UV鏡與橢圓鏡要多久更換?
一般正常使用，UV鏡與橢圓鏡可以使用好幾年，若是發生出光強度明顯減弱，可查看橢圓鏡?部表面鍍膜是否有過熱變黑或漏酸腐蝕情形，定再決定是否更換。
請問使用兩支對準鏡頭的好處在那?
使用兩支對準鏡頭可同時看到左右兩個align key，對位調整比較快。
曝光源點燈後，電源供應器顯示的電壓電流值不斷變動，功率值也低，是否正常?
汞燈點燈後，由於燈泡剛亮，溫度尚低，水銀未能揮發成氣態，導電介值仍主要是內部之氣體，在水銀揮發前的過渡期，電壓電流會不斷變動。
我要曝光的基板是6吋方， I-line曝光的能量約150mJ/cm2，請問適合的曝光源是那種?
若您是用在量產線，建議您使用1000W 6吋方曝光機，I-line光強度約40mW/cm2，曝光時間約4秒鐘。
光罩需如何固定?
光罩以真空吸附於吸盤上，下吸式吸盤先以手由下方托著光罩，將光罩貼附於吸盤下方，側邊頂住定位小螺絲，再開啟真空，上吸式吸盤先將光罩置於吸盤上，側邊頂住定位小螺絲，再開啟真空。