我們提供最專業的設計與服務

本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。

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  • 光罩對準曝光機

    高產量全自動曝光機，對位製程每小時可產出250片以上，無對位製程每小時可產出350片以上，全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出，產量為業界最高，兩倍於其他廠牌機型。

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  • 曝光源

    可選用光強回授型電源供應器，以燈箱內部之光強偵測器信號做回授控制，可使光強輸出長時間穩定，以均勻化的透鏡陣列產生的光束，在做圖形轉移的曝光時可有效降低光的繞射。

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  • 汞燈電源

    數位面板顯示輸出功率及電壓電流值，內部電磁接觸器做過載保護，後方接頭可輸出燈箱散熱風扇電源，以及燈箱過溫保護互鎖線路，操作性能良好，穩定性佳,耐用度高，最適合生產線使用。

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  • 零組件

    燈箱零件如:汞燈,橢圓鏡,UV鏡, 曝光機零件如: 光罩吸盤,晶圓chuck,鏡頭等

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訊息公告 More
常見問題 More
請問同軸打光與環形打光的使用時機各為何?

同軸打光適用於有高反射率的金屬的align key，是影像系統打光的bright field，影像品質較佳，環形打光適用於align key有高度差的構造， 是影像系統打光的dark field，影像品質通常較差。

請問你們有沒有晶圓正反兩面同時曝光的機型?

我們有雙面曝光曝光機，可做對位與曝光。

我要曝光的基板是6吋方， I-line曝光的能量約150mJ/cm2，請問適合的曝光源是那種?

若您是用在量產線，建議您使用1000W 6吋方曝光機，I-line光強度約40mW/cm2，曝光時間約4秒鐘。

我的曝光源點燈後出光強度一直很低，等了快一個鐘頭都沒有改善，請問是什麼問題?

可能是因為燈泡溫度一直過冷，裡面的水銀無法揮發，請檢查散熱風扇或抽風管，降低燈箱散熱風速，讓燈泡能熱起來。

請問你們有demo機可以試用嗎?

我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。

我把鏡頭倍率調大希望提高影像解析度，但光罩與基板的影像無法同時清晰，請問有什麼辦法?

影像倍率加大則影像景深會變小，可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像，但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。