我們提供最專業的設計與服務
本公司成立於2006年，為一小型之設備製造廠，專精於半導體微影製程之光罩對準曝光機及曝光源之開發製造，從曝光燈箱內的光學設計到各種型式的完整曝光機，本公司經多年努力已完全自行開發完成，並已出貨國內外眾多客戶，深獲好評。
訊息公告
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常見問題
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我把鏡頭倍率調大希望提高影像解析度，但光罩與基板的影像無法同時清晰，請問有什麼辦法?
影像倍率加大則影像景深會變小，可把align gap調小以得到清晰的光罩與基板影像，但要注意避免align gap太小而造成兩者的接觸磨擦。
我們的曝光燈箱內的汞燈在使用中爆炸了，處理程序如何?
汞燈內含水銀，在高熱狀態爆炸，水銀會以霧化狀散開，若燈箱有連接抽風管，可待抽風約30分鐘後再清理燈箱內部，若燈箱散熱風直接排於室內， 應疏散人員並等室內空氣排出後再行清理燈箱內部，清理燈泡碎屑應注意安全勿遭割傷，清除完後可用布把UV鏡與橢圓鏡稍加擦拭， 並注意排除可能造成爆燈的因素，再換上新燈泡重新點燈操作。
請問我只要測光阻材料在不同gap時曝光的特性，有適合的機型嗎?
我們有簡易曝光機，沒有影像對位功能，可適合您的應用。
光罩吸盤吸真空固定光罩時會有漏氣聲，如何排除?
光罩吸盤以真空吸附固定光罩，兩者之間需平整不能有微粒存在才能固定良好，可先用溶劑把兩者清潔，若仍有漏氣，可用鋼片等小工具輕括吸盤表面把殘膠括除，再用溶劑把兩者清潔。
請問你們有demo機可以試用嗎?
我們通常會有一台半自動的demo機可以讓客戶試用。
我要曝光的基板是6吋方， I-line曝光的能量約150mJ/cm2，請問適合的曝光源是那種?
若您是用在量產線，建議您使用1000W 6吋方曝光機，I-line光強度約40mW/cm2，曝光時間約4秒鐘。